标志设计面型与线型造型中特种处理

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发布于2023-03-03

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好酷屋教程网小编为您收集和整理了标志设计面型与线型造型中特种处理的相关教程：为了使设计的标志形象更加具有艺术性，我们有时采用一些特殊的手法。这些手法虽然表现的不是真实的客观现象，但它可让人在视觉上感到真实、丰富，有时还会产生有趣或奇特之感。那标志设计面型与线型造型中有什么特种

　　为了使设计的标志形象更加具有艺术性，我们有时采用一些特殊的手法。这些手法虽然表现的不是真实的客观现象，但它可让人在视觉上感到真实、丰富，有时还会产生有趣或奇特之感。那标志设计面型与线型造型中有什么特种处理呢？

　　一、面型造型中的特殊处理

　　在以面为基本造型要素设计的标志中，面与面之间的位置关系一般来说有“分离、相接、重叠”三种情况。下面我们分析与研究当面与面在设计中出现“重叠”现象时的特种处理方法。

　　1.重叠形合并：设想构成标志的重叠形是同色质材料组成的，在变现时我们就让两形合并。

　　2.重叠形分离：设想重叠形之间有一定的前后距离，在变现时用空白边线让两形前后分离，也就是出现后面形的局部被前面的形遮挡了的感觉。

　　3.重叠处透明：设想构成标志图形的材料是透明的，在表现时让重叠部分成为空白，视觉上产生透明感。

　　二、线型造型中的特殊处理

　　在标志设计中，有时只用造型要素之一的“面”构成图形，但有时为了某种造型的需要，也可只用“线”来造型。下面分析与研究用线造型时候，对线条重叠处的处理方式。

　　1.重叠处合并；

　　2.重叠处分离；

　　2.重叠处透明；

　　4.重叠处编织。

　　三、线型面化表现的特殊处理

　　有时为了标志图形整体形象更加简略，我们有意要用省略手法。如左下图标志图形是用（中间是透空的）两个框形组合而成的。但我们为了追求简略，在中下图和右下图中，有意省略了部分线条。处理后的结果，框形在视觉上视乎不是框形结构，而是充实的面形状结构（也就是中空部分的形变成是实形）

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