光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
三角面片模型是STL格式。STL是由3DSystems软件公司创立、原本用于立体光刻计算机辅助设计软件的文件格式。它有一些事后诸葛的字头语如标准三角语言、标准曲面细分语言、立体光刻语言和立体光刻曲面
1、光刻机可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造。按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV），光源的波长影光刻机的工艺。光刻机可分为接触式光刻、
